X熒光光譜儀包括一個光學平臺，可大大減少雜散光并提高機械和溫度穩定性。這個新的光學平臺具有雙內置模式消除器和多級復合拋物面反射鏡，因此雜散光減少至0.04％，是標準光譜儀的2.5倍。除了顯著改善雜散光之外，這種新的光學平臺還將光譜儀的機械強度提高了10倍以上，從而使其對機械變形和溫度變化的敏感性降低。

 

　　X熒光光譜儀的低雜散光特性使其特別適合需要測量高吸光度的應用，例如高化學濃度，高光密度光學組件和長光程測量。這種新型的光學平臺和光譜儀既適用于OEM應用又適用于單儀器應用。該儀器具有較低的雜散光（400nm下為0.015％）效果，并且在可見光范圍（360-825nm）內具有良好的顏色測量效果，從而提高了低照度下測量的靈敏度和處理效果。

 

　　1、具有良好的熱穩定性，其性能可與科研級光譜儀相媲美，可以選擇以滿足各種應用挑戰。

 

　　2、使用變節距凹面光柵。這種設計使光譜系統更加有效。中心光柵線密度為550（+/-2）標線/mm，標稱火焰波長為400nm。

 

　　3、配備的凹面光柵非常有助于提高其熱穩定性。在較寬的溫度范圍內進行測量。結果，幾乎沒有波長漂移，并且峰形具有良好的保留效果。因此，在要求低雜散光和熱穩定性的精密測量，熒光測量或吸光度測量中。

 

　　4、該儀器測量能力適用于要求寬測量范圍，低雜散光，高處理效率和良好熱穩定性的各種應用：

 

　　（1）大氣中的痕量氣體成分。

 

　　（2）光學致密物質溶液的吸光度。

 

　　（3）LED/激光和其他光源的精密測量。

 

　　（4）組織醫學輻射和生物介質的測量。

 

　　（5）固體表面熒光的測量溶液和粉末中的反向散射/熒光溶液。